板式透明导电薄膜沉积设备(RPD/PAR)
板式透明导电薄膜沉积设备(RPD/PAR)
技术特点 Features
· PVD具有多阶阴极，，可以制备种子层与多种折射率的叠层TCO。。。
· RPD具有无高能离子轰击衬底特点，，，能制备高少子迁移率的TCO。。。。
上一个：
板式等离子体增强化学气相沉积设备
下一个：
光罩清洗设备
|
COPYRIGHT © 2018-2020. 深圳市嘉业通讯新能源装备股份有限公司,All Rights Reserved
TOP