反应式等离子体镀膜与磁控溅射镀膜 一体设备（PAR）
反应式等离子体镀膜与磁控溅射镀膜 一体设备（PAR）
技术特点 Features
· 集成磁控溅射(PVD)、、、反应式等离子(RPD)镀膜；
· 产品系列从研发设备至量产设备全面布局；
· 量产产能：100 MW，，，250 MW，，600 MW。。。。
下一个：
多功能薄膜镀膜设备
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