磁控溅射镀膜设备（PVD）

  技术特点 Features  

· 低损工艺、、低温工艺、、、低阻&高透、
、、高温工艺≥300 ℃；

· 产品系列从研发设备至量产设备全面布局；

· 立式传送&卧式传送；

· 应用于钙钛矿、、、、HJT、、、
、HBC光伏/面板显示/芯片/锂电池等行业。。