• 反应式等离子体镀膜与磁控溅射镀膜 一体设备（PAR）

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    反应式等离子体镀膜与磁控溅射镀膜 一体设备（PAR）

      技术特点 Features  

    · 集成磁控溅射(PVD)、、、、反应式等离子(RPD)镀膜；

    · 产品系列从研发设备至量产设备全面布局；

    · 量产产能：100 MW，，250 MW，，600 MW。。



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