技术特点 Features
· 蒸发腔、、溅射腔共存;
· 蒸发腔:单面蒸发,,,可镀铝、、锂等低温蒸发材料;
· 溅射腔:6对旋转靶,,,,可替换平面靶;
· 后腔:可进行加热、、冷却、、、、气体处理、、、plasma处理等。。